「産業技術総合研究所」の研究員の中国籍の男が研究データを
中国の企業に漏えいしたとして逮捕された事件で、

データを受け取った企業が漏洩直後に
特許を取得していたことがわかりました。

産総研の上席主任研究員で中国籍の権恒道容疑者（59）は、
研究データを中国の会社にメールで漏えいした疑いで
15日に警視庁公安部に逮捕されました。

 

この事件に関する新たな情報として、
メールを受け取った中国の化学製品製造会社がおよそ1週間後に中国で特許を申請し、
その後取得していたことがわかりました。

取得したのは「フッ素化合物」の合成に関わる技術で、
権容疑者から提供された情報に似た内容のものだったということです。

 

公安部は研究データが中国での特許の取得に使われたとみて
引き続き捜査を行っています。

 

こうした日本の知的財産が
海外に流出するのを防ぐためにも
スパイ防止法の制定が求められます。

 

[著作権者VONVON /無断コピー、無断転載および再配布禁止（違反時の法的措置）]